产品特点

• 研发专用定位

  结构紧凑，操作简洁，专为实验室环境优化，助力新材料、新配方的快速验证与工艺开发。

• 狭缝精确定位

  狭缝头定位精度高达±2μm，确保涂布宽度精确、路径一致，保障薄膜形状规整。

• 供液精准稳定

  采用自研高精度注射泵，流量控制精度优于0.5%（@0.2ml/s），保障浆料供给稳定，膜厚均匀

• 运行稳定可靠

  涂布速度波动低至0.3%（@60mm/s），运动线性平稳，有效避免涂层缺陷。

• 智能自动化操作

  集成基材定位、涂布及模头清洗功能，实现一键式操作，提升实验效率与一致性。

• 广泛工艺兼容

  涂布宽度覆盖10–300mm，适用于钙钛矿、燃料电池、光学薄膜等多种研发场景。